제품명 | 화학명 | 용도 |
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TSA | Trisilylamine | SiO2 Gap fill |
BDEAS | Bisdiethylaminosilane | Low temp SiO2, Si seeding |
DIPAS | Diisopropylaminosilane | Low temp SiO2, Si seeding |
HCDS | Hexachlorodisilane | Spacer |
CpCo(CO)2 | Cyclopentadienyldicarbonylcobalt | Co capping layer |
High-k | Zirconium, Hafnium, Titanium, Aluminiumprecursors | High-k |
3DMAS | Trisdimethylaminosilane | Slit SiO2, Tunneling SiO2 |
WCl5 | TungstenPentachloride | Solid W precursor for seeding |
Ruthenium | Ex0XRuSeries | Liquid Ru precursor for ALD process |
BTBAS | Bistertiarybutylaminosilane | Middle temp SiO2 |
분야 | 담당자 | 직급 | TEL | |
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총괄/내수/일본 | 최용환 | 팀장 | 02-2152-2383 | yhchoi1@hansol.com |
중국 | 이경식 | 차장 | +86-135-9044-8039 | kslee1@hansol.com |
이주연 | 과장 | 02-2152-2309 | jy.lee8@hansol.com | |
대만 | 정원현 | 차장 | +886-938-430-079 | whjung@hansol.com |
종준위 | 과장 | + 886-912-881-655 | cwchung@hansol.com | |
미국 | 조현규 | 사원 | 02-2152-2382 | hkcho@hansol.com |
해외 | 김혜민 | 사원 | 02-2152-2375 | hmkim1@hansol.com |
내수 | 김재희 | 과장 | 02-2152-2372 | jhkim05@hansol.com |
진휘원 | 과장 | 02-2152-2382 | hwjin@hansol.com | |
이현재 | 대리 | 02-2152-2376 | hjlee01@hansol.com | |
문수연 | 사원 | 02-2152-2381 | symoon1@hansol.com |