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박막재료, 한솔케미칼만의 축적된 기술력을 바탕으로 다양한 프리커서 제품을 연구, 개발하고 있습니다.
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제품문의 제품자료실

CVD/ALD 기술은 나노미터 단위의 박막을 형성하거나 깊고 좁은 hole을 균일하게 채워 넣어야 하는 반도체 공정에서 매우 중요한 부분을 차지하며, FPD, LED, PV 등 여러 전자 산업에 주요 공정으로 응용분야가 확대되어 가고 있습니다.

CVD/ALD 공정은 전구체(precursor) 물질을 기화시킨 뒤 화학반응을 발생시켜 금속막, 산화금속막, 질화금속막 등의 원하는 물질을 선택적으로 형성하는 방법입니다.

한솔케미칼은 CVD/ALD에 사용되는 다양한 실리콘 및 금속 전구체를 생산하고 있습니다.

제품용도 및 특성

제품용도 및 특성 정보
제품명 화학명 용도
TSA Trisilylamine SiO2 Gap fill
BDEAS Bisdiethylaminosilane Low temp SiO2, Si seeding
DIPAS Diisopropylaminosilane Low temp SiO2, Si seeding
HCDS Hexachlorodisilane Spacer
CpCo(CO)2 Cyclopentadienyldicarbonylcobalt Co capping layer
High-k Zirconium, Hafnium, Titanium, Aluminiumprecursors High-k
3DMAS Trisdimethylaminosilane Slit SiO2, Tunneling SiO2
WCl5 TungstenPentachloride Solid W precursor for seeding
Ruthenium Ex0XRuSeries Liquid Ru precursor for ALD process
BTBAS Bistertiarybutylaminosilane Middle temp SiO2

담당자 연락처

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대만 정원현 차장 +886-938-430-079 whjung@hansol.com
종준위 과장 + 886-912-881-655 cwchung@hansol.com
미국 조현규 사원 02-2152-2382 hkcho@hansol.com
해외 김혜민 사원 02-2152-2375 hmkim1@hansol.com
내수 김재희 과장 02-2152-2372 jhkim05@hansol.com
진휘원 과장 02-2152-2382 hwjin@hansol.com
이현재 대리 02-2152-2376 hjlee01@hansol.com
문수연 사원 02-2152-2381 symoon1@hansol.com
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